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| 1 | 坩埚材料对生长CdSiP_2晶体表面的影响研究显示文摘针对CdSiP_2晶体生长过程中,晶体表面与石英坩埚内壁严重粘连甚至开裂的问题,研究了柔性氮化硼(PBN)内衬坩埚生长CdSiP_2晶体的新工艺。运用X射线能量色散谱仪(EDS)和X射线光电子能谱仪(XPS)分别对两种坩埚材料生长的CdSiP_2晶体表面元素成分和化学状态进行测试发现,采用石英坩埚生长的CdSiP_2晶体表面主要组分元素为33.31%的Si和65.63%的O,晶体表面Si2p的结合能为103.2 e V,与文献中SiO_2的Si2p结合能一致。进一步的分析表明,高温CdSiP_2熔体离解产物与石英材料反应生成SiO_2界面层是导致晶体严重粘连,甚至开裂成碎块的重要原因;采用柔性氮化硼(PBN)内衬坩埚能有效解决晶体与器壁的粘连,生长的CdSiP_2晶体完整较好,表面层各组分元素含量接近CdSiP_2理论化学配比1∶1∶2,质量较高。 | 吴敬尧 朱世富 赵北君 何知宇 陈宝军 黄巍 孙宁 林莉 王黎罡 | 2015 | 人工晶体学报2015，44，12： | 1 |
| 2 | CdSiP_2单晶退火研究显示文摘以高纯(6N)Cd、Si、P单质为原料,采用双温区气相输运法和改进的垂直布里奇曼法合成生长出等径尺寸为Φ17 mm×65 mm的CdSiP_2单晶锭,经切割抛光得到CdSiP_2晶片。将样品分别置于真空、镉气氛、磷气氛和在同成分粉末包裹中进行了退火试验。采用X射线能量色散谱仪(EDS)和傅里叶红外分光光度计(FTIR)对退火前后的晶片组分及红外透过谱进行了测试分析。结果表明:四种氛围退火前后样品的组分变化不大,原子比接近理想的化学计量比;镉气氛下退火对晶片的红外透过率改善较为显著,在1600~4500 cm^(-1)范围内的红外透过率由46%~52%提高到51%~57%,接近CdSiP_2晶体红外透过率的理论值。 | 孙宁 赵北君 何知宇 陈宝军 朱世富 黄巍 吴敬尧 林莉 钟义凯 | 2015 | 人工晶体学报2015，44，12： | 0 |
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