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3篇 您的检索式：作者名="Mentor Graphics"

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	题名	作者	年代	出处
1	计算光刻驱动DFM的拥有成本显示文摘45和32nm节点的可制造性需要新的策略。计算光刻提供了为设计流程定义解决方案的方法。	Chades Albertalli Tom Kingsley Mentor Graphics	2007	集成电路应用2007，，7：
2	采用通孔双置技术提高设计鲁棒性显示文摘如果能采用通孔双置技术,就能有效提高良率,但如何做到是个问题。本文解释了各种良率损失的原因,及优化通孔双置的最好方法。	Jeff Wilson Mentor Graphics Walter Ng	2006	集成电路应用2006，23，9：
3	基于断言的功能验证技术显示文摘前言断言和功能覆盖率犹如一个硬币的两面.在一个RTL的设计中,两者都提供了详尽的可观察点.断言提供了功能正确与否的信息,而功能覆盖率则显现出设计行为的监测.两者都代表设计的规格,而以仿真或是形式验证的方式来确认.	Mentor Graphics	2005	中国集成电路2005，14，10：

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