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1高流速辉光放电质谱法检测镍基高温合金中痕量元素及其深度分布显示文摘为了制造效率更高,输出功率更大,同时散热更少的飞机引擎,需要燃料的燃烧温度也越来越高,因此航空发动机的生产商和涡轮发动机的制造者对材料和部件提出了新的要求。在较高的温度时,为了维持材料的机械性能和提高合金部件的控制能力,需要继续改进原有的高温合金或者开发新一代高温合金,同时制造者也在建立更加严格的规格界限和质量控制规程。本文主要描述具有高流速离子源的辉光放电质谱仪,这种仪器的分析速度快,灵敏度高,非常适合于高温合金的分析。仪器除了可以做搜索分析和基材的杂质元素含量的检测之外,其直接进样的方法可以更好地检测出各种元素在产品高温受热之后的分布情况,以及痕量元素在保护层和界面的纵向分布。Kenghsien Su Xinwei Wang Karol Putyera 2011冶金分析2011,31,11:6
2利用高分辨辉光放电质谱技术对难熔金属材料进行痕量元素定量和深度剖面分析显示文摘直接采样的高分辨辉光放电质谱(GDMS)是当今高纯固体常规分析中可用的高灵敏度分析方法之一。这种多元素分析技术通常用于主量化学成分的定量分析、监测元素质量分数随微米级深度(深度分布)的变化,或用于对多种固体和镀层上肉眼可见体积的高灵敏度的分布研究,包括纯金属、高温合金、陶瓷或其中陶瓷金属。由于GDMS的检测几乎涵盖了所有方法,因此在监测痕量级的多元素含量方面是最具成本优势的。另外,它使对在包含绝缘层和(或)镀层及两者化合物的平面上的高灵敏度的含量深度分布分析成为可能。本文着重介绍直流辉光质谱技术用于监测痕量至超含量元素分析技术目前的进展以及直接采样分析实践中应当采用的策略。PUTYERA Karol BOYEA Nick CUQ Nicole MICHELLON Cyril 2010冶金分析2010,31,2:4
3Surf Coat Technol 显示文摘SPITSBERG I T PUTYERA K 2001139:35-432001,139,:1
4Depth profile and quantitative trace element analysis of diffusion aluminided type layers on Ni-base superalloys using high-resolution glow-discharge mass spectrometry显示文摘Spitsberg I T Putyera K 2001Surface and Coatings Technology2001,139,:1
5Effect of template constraints on adsorption properties of synthetic carbons prepared within the gallery of layered double hydroxides 显示文摘PUTYERA K BANDOSZ T J JAGIEO J 1996Carbon1996,34,12:1
6Acid buffering capacity of basic carbons revealed by their continuous pK distribution显示文摘Adriana Contescu Mihail Vass Cristian Contescu Karol Putyera James A. Schwarz 1998Carbon1998,,3:1
7Cadmi- um sulfide particles in organomontmorillonite complexes 显示文摘KATOV N A PUTYERA K FENDLER J H 1993Colloids Surf A1993,71,:1
8Surface Acidity of Carbons Characterized by Their Continuous pK Distribution and Boehm Titration 显示文摘Contescu A Contescu C Putyera K 1997Carbon1997,35,1:1
9Depth profile and quantita- tive trace element analysis of diffusion aluminided type layers on Ni-base superalloys using high-resolu- tion glow-discharge mass spectrometry 显示文摘Spitsberg I T Putyera K 2001Surface and Coating Technology2001,139,:1
10Carbon显示文摘Bandosz T Putyera K Schwarz JA 199432:659-6641994,32,:1
11Chem Mater显示文摘Bandosz T Jagiello J Putyera K Schwarz JA 19968:2 023-20291996,8,:1
12一种新的补偿硅电阻率/掺杂浓度模型(英文)显示文摘硅片或硅块的电阻率与掺杂浓度的关系模型不适用于补偿硅,如精纯冶金级硅(UMG-Si)。目前尚无合适的理论模型可以准确解释补偿硅实验和观测结果间存在的差异。基于电解液理论提出一种包含电离平衡常数的新方法,可以得到单掺杂硅的电荷载子迁移率Thurber曲线。当掺杂硅中包含一种以上掺杂物质时,需要采用数值算法来解决多重平衡系统。研究表明这类系统表现出一种缓冲溶液的特定行为。通过计算化合物的热力学参数获得平衡常数,并利用现有的电化学知识(Nerust方程和Butler-Volmer方程)提出一个普遍理论。因为硅/掺杂物系统构成一个弱电解质固溶体,电解质溶液理论为太阳能电池行为的认知提供了一个很好的物理模型和数学框架。Dominic LEBLANC Karol PUTYERA 2011Transactions of Nonferrous Metals Society of China2011,21,5:0
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